A股芯片的春天！光刻机突破再获新专利，这5家公司或将大涨

　　目前高性能模拟芯片、FPGA芯片、汽车芯片等领域依然以进口为主，存在广阔的国产替代空间。
　　半导体设备和零部件方面，由于美国出口管制升级，我国未来有望健全新型举国体制，加快实现高水平科技自立自强。美商务部在半导体制造和先进计算等领域对华升级出口管制措施，限制中国获取高性能计算芯片、先进计算机、特定半导体制造设施及相关技术，同时限制已有进一步延伸至上游材料和零部件的趋势。
　　在此背景下，半导体领域国产替代有望在国家持续支持下快速发展。半导体设备、材料及零部件未验证通过的有望进一步加速验证，已验证通过的会在政策方面支持下加速导入。
　　半导体材料方面，伴随着上游晶圆厂扩产潮和海外管制升级，半导体材料国产化有望加速。受下游新能源汽车、光伏、人工智能、数据中心等拉动，晶圆厂相继公布和实施扩产计划，国内中芯国际、华虹集团、粤芯半导体等厂商均有不同程度扩产计划，随着新增产能投产和海外管制的严苛，国内半导体材料有望加速导入客户供应链体系。
　　华为再取新突破，公布光刻机新专利，有望成功打破国外芯片封锁
　　以中芯国际为首，实现了14nm芯片制程工艺的量产，实现了我国从28nm制程工艺向14nm跨越，而通富微电更是采用集成的方式，完美绕过EUV光刻机，实现了5nm制程工艺芯片的研发。像是上海微电子更是将光刻机拆分为几个大板块，采用逐个击破的方式进行研究，进展神速。
　　光刻机未来发展方向方面，当前，ASML正在加速NA从0。33向0。55演进。预计2025年后，0。55数值孔径的EUV光刻机能够实现量产，不仅有望为1。5nm及1nm逻辑制程工艺提供支撑，还将在目前最先进的DRAM制程中得到应用。对于0。55NA的光刻机而言，仅仅是光刻机系统的更新是不够的。
　　作为一个高协调性的复杂光学设备，光刻机中的任何一个部件变动都需要进行整体性的设计改良，因此为了配合0。55镜头的升级，光掩膜、光刻胶叠层和图案转移工艺等方面也需要进行优化，以确保整个光刻机的良好性能。
　　飞凯材料
　　营业总收入：8。97亿，市净率：8。46，总市值：173。24亿
　　公司亮点：致力于为客户提供半导体装备与工艺整体解决方案
　　公司生产的涂胶显影机成功打破国外厂商垄断并填补国内空白，其中在LED芯片制造及集成电路制造后道先进封装等环节，作为国内厂商主流机型已成功实现进口替代。产品包括光刻工序涂胶显影设备（涂胶显影机、喷胶机）和单片式湿法设备（清洗机、去胶机、湿法刻蚀机）。
　　晶瑞电子
　　营业总收入：13。38亿，市净率：5。20，总市值：94。86亿
　　公司亮点：国内最早规模量产光刻胶的少数几家企业之一
　　晶瑞电子材料股份有限公司是一家微电子材料的平台型高新技术企业公司是一家专业从事微电子化学品的产品研发、生产和销售的高新技术企业，主导产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池材料和基础化工材料等。
　　世名科技
　　营业总收入：4。88亿，市净率：3。57，总市值：29。34亿
　　公司亮点：国内最早研发并生产商品化色浆的企业之一
　　公司与马鞍山慈湖高新技术产业开发区管理委员会签订《入区协议》，并使用自有或自筹资金2。2亿元，在马鞍山慈湖高新技术产业开发区投资建设年产56000吨先进光敏材料及1000吨光刻胶纳米颜料分散液项目。
　　南大光电
　　营业总收入：12。59亿，市净率：8。19，总市值：173。61亿
　　公司亮点：MO源产业化生产的企业
　　江苏南大光电材料股份有限公司主要从事先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料三类半导体材料产品生产、研发和销售。公司自主研发的ArF光刻胶产品成功通过客户的使用认证，成为通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶。近日拿到首个订单，拟进行小批量生产，目前尚未签署大批量订单。
　　芯碁微装
　　营业总收入：4。11亿，市净率：10。54，总市值：105。22亿
　　公司亮点：国内主要的泛半导体直写光刻设备供应商之一
　　公司专业从事以微纳直写光刻为技术核心的直接成像设备及直写光刻设备的研发、制造、销售以及相应的维保服务，主要产品及服务包括PCB直接成像设备及自动线系统、泛半导体直写光刻设备及自动线系统、其他激光直接成像设备以及上述产品的售后维保服务。
　　以上数据内容只是个人看法，不分排名先后，不做投资依据，投资有风险，入市需谨慎！