再获新突破！中国光刻机升级完成，有人比ASML还焦虑？

　　导语：科技的发展，让全球芯片之争愈加激烈。近一两年来，欧美国家为打击我国半导体产业，频频断供芯片，让中国的芯片发展之路变得困难重重。然而，近日我国光刻机的一项新突破，让很多人开始不淡定了。
　　中国光刻机再获突破
　　一直以来，光刻机都是生产芯片的关键设备，而我国半导体领域发展受挫的主要原因也是因为美国限制荷兰ASML对我国出口先进的光刻机。
　　但也正因为美国和一些西方国家各种敌对我国，让我国一些国产科技企业不得不相互合作，共同发展。
　　据报道，国内最大的光刻机厂商，上海微电子传出消息称，自主研发的28纳米光刻机已经通过认证，将在今年完成交付并正式投入使用。
　　值得一提的是，上海微电子研发的这款光刻机其精度跟ASML的DUV光刻机一模一样。据悉，英特尔就是使用该DUV光刻机才制造出10纳米芯片，台积电更是利用该设备，让7纳米芯片率先完成量产。这也意味着，我国完全有可能由目前的28纳米芯片技术直接跳跃到7纳米芯片技术。另外，就我国目前的国情来说，28纳米芯片已经能够满足大部分市场需求，它的研发，给予我国国产芯片事业极大的信心。
　　ASML不淡定，美国更不淡定？
　　我国国产28纳米光刻机成功研发的消息一出，荷兰ASML就开始坐立难安。中国作为全球芯片需求量最大的市场，如今有了自己的光刻机技术，势必就不再依赖进口。为了重新操控中国市场，ASML立刻降价倾销上一代光刻机。但并不是所有国人都乐意买账，毕竟之前我们最需要的时候，ASML不能供货，而今又为中国市场各种讨好，甚至还企图阻碍我国高端技术领域的发展，实在算不上是君子所为。
　　除了ASML之外，美国的紧张感可以说是有过之而无不及。一直以来，各国对于中国半导体的打压都是为了讨好美国，而今，中国的光刻机有了新的突破，美国很有可能因此失去全球半导体产业的主导权。
　　光刻机发展刻不容缓
　　我国是一个芯片需求极大的国家，每年对外需求的芯片达到了3000亿，占据全球30的比例。不管是为了避免被卡脖子，还是为了国家国防安全，打造一条属于中国自己的半导体产业链刻不容缓。
　　虽说，这一两年来，我国确实在半导体领域取得重大突破，但是我们的光刻机水平和ASML、台积电等行业巨头差距还是比较明显。想要真正突破受制于人场面，还是需要更多的精力投入。
　　结语：美国对我们现有的芯片技术封锁，确实给我们的半导体发展带来一定压力，但也正是被压迫，所以国人才会更加坚定芯片自研的决心。无论如何，国产企业都必须立足长远目标，真正实现芯片自主。