我的采访故事，2018科技大事件超分辨光刻装备研制通过验收

　　2018年11月29日，中科院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目超分辨光刻装备研制在成都通过验收。
　　超分辨光刻装备研制
　　超分辨光刻装备
　　它打破了传统光学光刻分辨力受限于光源波长及镜头数值孔径的传统路线格局，形成了一条全新的超衍射纳米光刻从原理、装备到工艺的技术路线，具有完全自主知识产权，为超材料超表面、第三代光学器件、广义芯片等变革性战略领域的跨越式发展提供了制造工具。
　　但是，光电所自己说了，我们光电所的光刻机适合加工一系列纳米功能器件，包括大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射器件、和超表面成像器件。
　　什么意思了，就是我们的这个光刻技术在实验中获得了22nm（117波长）最高SP成像光刻线宽分辨力水平。
　　光电所内部人员解释
　　光电所的内部人员给的解释很科学，但这并不是芯片制造人们理解的光刻技术。
　　国外一家研究所的图片
　　其实，中科院光电技术研究所的这项技术就是表面等离子体超分辨光刻，也叫surfaceplasma，我们也把其称之为表面等离子超衍射光刻，这是最近十几年兴起的新技术。
　　这种光刻的工作原理是入射光照射在透镜表面的小探针上，从而激发产生plasma，产生波长非常短的等离子体，然后在光刻胶上刻出非常小的图形。（借用国外一家研究所的图片）
　　中科院光电技术研究所成片放大图片
　　且从上图就可以看到LWR粗糙，歪歪斜斜，图像保真度非常低，目前只能作为技术验证，不能作为真实生产，更不要说量产可能了。
　　SP光刻成片
　　国外使用SP光刻技术做的效果，明显好于中科院，这一技术并非中国首创，国外有很多实验室也做出了成品验证机，效果还优于中科院，甚至都达不到国际领先的程度。
　　最大的缺点是由于SP光刻聚焦的面积非常小，属于接触式光刻，一点点的defect缺陷就会造成成像品质的问题，属于直写式光刻，所以生产效率很低，只能作为Ebeam光刻一种补充，适用于特殊应用。
　　截止目前的发展技术水平，SP光刻和我们熟悉的半导体集成电路光刻相比，还无法应用在集成电路领域，SP光刻技术对于集成电路的光刻是不适用的。
　　中科院光电技术研究所研究SP最大的意义，在于为中国发展高分辨、低成本、高效、大面积纳米光学光刻技术提供重要方法和技术思路，社会应当支持并赞同这种科技创新！
　　我是叮当，如果您满意我的文章，请关注一下叮当新科技
　　谢谢！
　　2018科技大事件