IT之家10月14日消息,佳能(Canon)公司近日发布新闻稿,开始销售芯片生产设备FPA1200NZ2C,表示采用不同于复杂光刻技术的方案,可以制造5nm芯片。 佳能表示这套生产设备的工作原理和行业领导者ASML不同,并非光刻,而更类似于印刷,没有利用图像投影的原理将集成电路的微观结构转移到硅晶圆上。 这套设备可以应用于最小14平方毫米的硅晶圆,从而可以生产相当于5nm工艺的芯片。 佳能表示会继续改进和发展这套系统,未来有望用于生产2nm芯片。 IT之家注:纳米印刷(Nanoprintedlithography)通常被认为是光学光刻的低成本替代品,SK海力士和铠侠等存储芯片制造商过去曾尝试过使用。铠侠此前进行过测试,不过潜在客户提出投诉,认为产品缺陷率较高,最后选择放弃。