通用平台技术论坛（CPTF）大会上，GlobalFoundries宣布了他们的最新成果，业内第一家使用3D14nmXMFinFET晶体管工艺制造了一颗ARMCortexA9双核心处理器，而相关研究和模拟表明，14nmXM工艺的能效要比现在的28nmSLP高出两倍之多。
　　GlobalFoundries、ARM的合作研究发现，28nmSLP工艺生产一颗高性能、高能效的ARM处理器一般需要使用12轨库（12tracklibraries），14nmXMFinFET工艺生产更高性能、更高能效的则只需要9轨库，核心面积可以进一步缩小。在同样的功耗下，14nm可以达到的频率比28nm要高出61，而在同样的频率下，14nm的功耗则要比28nm低了62。
　　综合来讲，如果以DMIPmW为指标，14nmXM的能效能超过28nmSLP的两倍，而核心面积缩小一半。
　　ARM方面也很兴奋，其执行副总裁、物理IP部门总经理DipeshPatel表示：“这些初步结果展示了FinFET技术应用于ARMSoC处理器的潜在好处。通过在制造工艺技术上的早期合作，GlobalFoundries、ARM得以发现并解决了SoC设计中的难题，降低客户采纳时的风险。”
　　GlobalFoundries14nmXM工艺在20nmLPM后端的基础上融合了14nmFinFET，可以快速投产上市，其鳍片间距为48nm，估计和IntelFinFET技术差不多。
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